产品规格:多种规格 | 执行标准:精细 | 主要用途:研磨抛光 |
| |||||||||||||||||||||||||||
此模板由【超级快车】提供 |
产品名称:硅片抛光液
用途:本产品适用于半导体材料如硅片的表面粗/中抛光。
特点:其特点是在具有较高抛光去除速率(0.9μm/min)的同时,可多次循环使用,循环使用过程中抛光去除速率及抛光后表面质量稳定,有效降低抛光液使用成本。
特性:抛光后晶片表面的微粗糙度在 0.2nm以下,已经在国内知名抛光片生产线上使用,完全符合生产应用要求,可替代现有国外同类进口产品。
颜色:外观乳白色或微蓝色透明溶液。
技术指标如下:
含量(以SiO2%计) ——15%-25%
pH值 ——————— 10.8-11.8
比重(20℃) ————— 1.10-1.20
粒径—————————10nm-25nm
粘度(20°C)————小于25c.p
本公司由专业的实验室研发各种材料的抛光液,可以根据不同材质配置抛光液。
更多:研磨盘、抛光皮、研磨液、平面研磨机、研磨抛光案例
深圳市海德精密机械有限公司
电话:0755-89813868
传真:0755-61624588
销售热线:13480120112
***:
***:
邮箱:hyder@szlapping.com
地址:深圳市龙岗区平湖街道良安田社区榄树下工业区1号厂房